X62 S1282×485-D-S-1型抛光机

一．设备用途
该设备主要适用于4-6″蓝宝石、硅片、锗片、铌酸锂、钽酸锂等片状硬脆材料的单面高精度抛光加工。
二．设备特点
1.主抛光盘及四组抛光头均采用变频无级调速，并能方便设置四组抛光头的同步转速，使抛光过程的相对速度协调一致；
2.抛光头用电气比例阀调控实现了自动压力控制，可大区段自动加压。研磨过程时间、压力转换可按照不同的研磨工艺而设定，较大地满足了不同研磨工艺对设备的要求；
3.主抛盘和上抛头内均设冷却水循环系统，采用非接触式主盘温度检测装置，可实现温度的精确控制，采用PLC及触摸屏控制方式，可存储多套工艺参数，显示丰富，操作方便。整机配套，并进行实时显示；
4.选用世界**厂商的外购元器件配套，保证了设备的运转精度和使用可靠性，其可靠性及精度指标完全满足了蓝宝石单面抛光的需求。
三、设备主要技术参数
1.主抛光盘直径                    φ1282mm    
2.抛光盘直径                      φ485mm
3.主抛光盘转速                     0～65rpm
4.抛光头转速                       0～65rpm
5.抛光头数量                      4 
6.主气缸直径                     φ125mm
7．抛光头升降行程                 250mm
8.较大设定压力                    500kgf
9.较小设定压力                    30kgf
10.主抛光盘驱动电机                 22kW  
11.抛光头驱动电机                   0.75kW×4
12.设备外形尺寸（长×宽×高）       3050 mm×1740 mm×2600 mm
13.设备质量                        约6500Kg
四．设备安装使用环境
设备应安装在地面平坦，远离振动源，无灰尘烟雾污染的场所。
1．工作温度：                  15℃-25℃
2．气源：                      0.4-0.6MPa（干燥无油）    
3．相对湿度                    ≦80%
4．电源：                      AC380V，50Hz (三相五线制)
5.冷却水  
水压：2kgf/cm2 以下
水量：30L/min
温度：7～12℃